1、機(jī)械拋光
機(jī)械拋光分為粗拋光和細(xì)拋光。粗拋光是在轉(zhuǎn)速200-300轉(zhuǎn)/分的電動(dòng)拋光盤上用粗呢絨進(jìn)行的。在粗拋光的過程中，要適當(dāng)?shù)娜錾陷^粗的氧化鉻、氧化鋁或氧化鎂拋光液，并保持拋光盤上呢絨的濕潤(rùn)。在粗拋光過程中要拿緊試樣，沿拋光盤的徑向往復(fù)運(yùn)動(dòng)，均勻地調(diào)整所施加的壓力，注意其壓力也不應(yīng)過大。
拋光開始時(shí)，要不時(shí)的撒些拋光液。以后慢慢減輕壓力，減低拋光液的濃度直至拋光到細(xì)磨痕消失，平整光亮且沒有黑點(diǎn)時(shí)為止。粗拋光的試樣經(jīng)水洗凈后再進(jìn)行細(xì)拋光，通過細(xì)拋光以求清除粗拋光所留下的磨痕，使磨面光亮平整。細(xì)拋光所用的拋光機(jī)與粗拋光所用的設(shè)備基本相同，其轉(zhuǎn)速為150-200轉(zhuǎn)/分。
細(xì)拋光采用柔軟的毛織物，通常用細(xì)呢絨進(jìn)行拋光。拋光粉要更細(xì)些，市面上售的氧化鉻經(jīng)水選浮后可用于細(xì)拋光。若要得到更好的拋光效果，可選用細(xì)氧化鎂或氧化鋁作拋光液在麂皮上手工拋光。在細(xì)拋光過程中施加的壓力應(yīng)比粗拋光時(shí)輕，拋光液不要太濃，絨盤要保持一定的濕度。
因?yàn)槟亟q太干，容易將磨面劃傷，出現(xiàn)較深較多的劃痕;呢絨太濕也不好，會(huì)使磨面氧化。呢絨濕度隨著拋光過程的進(jìn)行而逐漸減少。經(jīng)常觀察試樣細(xì)拋光的情況，提起后在試樣的拋光面上不粘帶拋光液及小的水珠。而保持一吹即干的水膜時(shí)，要輕輕拋光。
待試樣的粗拋光磨痕消失，基體清亮，拿起后在試樣的拋光面上無水膜時(shí)，試樣的細(xì)拋光已經(jīng)合適。若使用氧化鎂拋光粉時(shí)，要隨用隨配，用過后應(yīng)將呢絨盤取下，放在流動(dòng)水中仔細(xì)清洗，以防潮解變質(zhì)。
試樣在拋制過程中無論是粗拋光或細(xì)拋光都不宜時(shí)間過長(zhǎng)，壓力過大，否則將拋掉合金中的相，使磨面的變形層加深，從而影響拋光質(zhì)量，在下一步觀察時(shí)得出錯(cuò)誤的組織結(jié)論。
2、化學(xué)拋光
化學(xué)拋光是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表面微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解，從而得到平滑面。這種方法的主要優(yōu)點(diǎn)是不需復(fù)雜設(shè)備，可以拋光形狀復(fù)雜的工件，可以同時(shí)拋光很多工件，效率高。化學(xué)拋光的核心問題是拋光液的配制。化學(xué)拋光得到的表面粗糙度一般為數(shù)10μm。
3、點(diǎn)解拋光
工件上脫離的金屬離子與拋光液中的磷酸形成一層磷酸鹽膜吸附在工件表面，這種黏膜在凸起處較薄，凹處較厚，因凸起處電流密度高而溶解快，隨黏膜流動(dòng)，凹凸不斷變化，粗糙表面逐漸被整平的過程。
工件作為陽極接直流電源的正極。用鉛、不銹鋼等耐電解液腐蝕的導(dǎo)電材料作為陰極，接直流電源的負(fù)極。兩者相距一定距離浸入電解液(一般以硫酸、磷酸為基本成分)中，在一定溫度、電壓和電流密度(一般低于1安/厘米2 )下，通電一定時(shí)間(一般為幾十秒到幾分)，工件表面上的微小凸起部分便首先溶解，而逐漸變成平滑光亮的表面。
